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      成都祺鋒科技有限公司
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      W5型全譜直讀光譜儀
      更新時間:2020-04-20 09:54:47 字號:T|T

      儀器介紹


          W5型全譜直讀光譜儀可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準確、可靠的分析。公司在行業內擁有光譜多年的生產經驗積累,針對不同材料、不同要求,設計了這款全新的、更具性價比的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業、加工業及金屬冶煉用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的應用。
       

      產品特點

       
      性能優越的光學系統
      ²  帕邢-龍格結構凹面光柵,全譜覆蓋,滿足客戶對全元素檢測的需求。
      ²  直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件,保證紫外區域的高性能。
      ²  高分辯率多CMOS讀出系統,更低的暗電流,更好的檢出限,更高的穩定性,更強的靈敏度,滿足N的分析要求。
       
      l  智能數字激發光源
       
      ²  全數字化智能復合光源DDD技術,帶來優越分析性能。
      ²  緊湊的設計及半導體控制技術,使得光源具有更好的穩定性、更強的可靠性。
      ²  高能預燃技術(HEPS),激發參數調整,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。
       
      l  激發臺直接將激發光導入光學系統
      ²  開放式樣品臺,滿足大樣品測試要求。
      ²  變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
      ²  視頻識別技術,確保樣品臺激發安全,可監測樣品臺的全景。
       
      l  智能集成氣路模塊
      ²  智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置
      ²  獨特的氬氣噴射技術,有效消除激發過程中等離子體的飄移,確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號,提高精度和穩定性。
      ²  激發后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長期穩定性。


      l  智能真空測量和控制
      ²  真空系統完全程控,在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間,
      ²  雙級設置,在儀器不運行的情況下,開啟待機真空運行狀態。
      ²  多級真空隔離措施及增加濾油裝置,保障光學元器件在可靠的環境中工作。
       
      l  透鏡清理裝置
      ²  不銹鋼真空球閥,在清理透鏡時有良好的隔離效果。
      ²  單板式透鏡設計,拆裝方便。
      ²  交叉機械裝置,在未解除隔離的情況有效保護光學系統。

       

      應用領域



       

      技術參數:



      項目 指標
      檢測基體 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
      光學系統 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統
      波長范圍 165~580nm(可安裝上下限檢測器擴大波長范圍)
      光柵焦距 400mm
      探 測 器 高分辯率多CMOS圖像傳感器
      光源類型 DDD數字激發光源,高能預燃技術(HEPS)
      放電頻率 100-1000Hz
      放電電流 不高于 400A
      檢測時間 依據樣品類型而定,一般在25s左右
      電極類型 鎢材噴射電極
      分析間隙 樣品臺分析間隙:3.4mm
      真空系統 真空軟件自動控制、監測
      光室恒溫 34℃,溫度自動監測
      氬氣純度 99.999%
      氬氣壓力 0.5MPa
      工作電源 AC220V 50/60Hz 
      儀器尺寸 860*680*438mm
      儀器重量 約100kg
       
       

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